流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御

流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御講演概要・記念講演[M]200105流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御山田奨(中央可鍛)、後藤正治(秋田大学)、麻生節夫(秋田大学)、小松芳成(秋田大学)流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御 , , 流動層炉によるFDC-D化処理と組織制御, 138-0007講演概要・記念講演[M]n06787

分類講演概要・記念講演[M]
DOI
掲載年月200105
論文名流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御
論文名(英)
研究者山田奨(中央可鍛)、後藤正治(秋田大学)、麻生節夫(秋田大学)、小松芳成(秋田大学)
キーワード流動層炉によるFCD-D化処理と組織制御 , , 流動層炉によるFDC-D化処理と組織制御,
掲載ページ138-0007
IDn06787