電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響

電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響講演概要・記念講演[M]199710電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響佐々木正登(㈱ユニシアジェックス)、神長美代志(㈱ユニシアジェックス)電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響131-0020講演概要・記念講演[M]n06162

分類講演概要・記念講演[M]
DOI
掲載年月199710
論文名電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響
論文名(英)
研究者佐々木正登(㈱ユニシアジェックス)、神長美代志(㈱ユニシアジェックス)
キーワード電子ビームによるAl-Si合金にCuを溶融して硬化させた層の割れに及ぼすCuとSi量の影響
掲載ページ131-0020
IDn06162