溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響
bunken-search溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響講演概要・記念講演[M]10.11279/jfeskouen.161_101201210溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響松田和樹・宇野光（早稲田大学大学院）, 竹原剛史（早稲田大学）, 久保貴司・松居悠・宮野学（古河スカイ株式会社）, 吉田誠（早稲田大学材料研究所）溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響0161-0101講演概要・記念講演[M]n20547
| 分類 | 講演概要・記念講演[M] |
|---|---|
| DOI | 10.11279/jfeskouen.161_101 |
| 掲載年月 | 201210 |
| 論文名 | 溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響 |
| 論文名（英） | |
| 研究者 | 松田和樹・宇野光（早稲田大学大学院）, 竹原剛史（早稲田大学）, 久保貴司・松居悠・宮野学（古河スカイ株式会社）, 吉田誠（早稲田大学材料研究所） |
| キーワード | 溶湯への超音波印加条件がAl-4mass%Si合金の結晶粒系に及ぼす影響 |
| 掲載ページ | 0161-0101 |
| ID | n20547 |
