電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製
bunken-search電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製講演概要・記念講演[M]10.11279/jfeskouen.176_214202012電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製田村卓也・李明軍（産業技術総合研究所）電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製0176-0214講演概要・記念講演[M]n23314
| 分類 | 講演概要・記念講演[M] |
|---|---|
| DOI | 10.11279/jfeskouen.176_214 |
| 掲載年月 | 202012 |
| 論文名 | 電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製 |
| 論文名（英） | |
| 研究者 | 田村卓也・李明軍（産業技術総合研究所） |
| キーワード | 電磁振動セミソリッドプロセスを用いた異方性鋳造ネオジム磁石の作製 |
| 掲載ページ | 0176-0214 |
| ID | n23314 |
